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        納米級空化技術:日本Nalex ALBA-SONIC超聲波清洗機的精密清洗革命

        發布時間: 2025-11-13  點擊次數: 63次
          當精密制造進入“納米時代”,傳統顆粒度指標已從“微米級”下探至“百納米級”,常規超聲空化因氣泡尺寸過大、能量分布不均,難以去除亞微米-納米顆粒,且易造成表面微損傷。日本Nalex公司推出的ALBA-SONIC系列,通過“納米級空化”核心算法與硬件重構,實現氣泡直徑<200 nm、沖擊壓力可調,一舉打破“清潔度-損傷度”不可兼得的魔,正在半導體、光通訊、車載鏡頭等產線掀起精密清洗革命。
         
          一、核心原理:把空化氣泡做到納米級
         
          高頻-超高頻復合
         
          ALBA-SONIC采用1.2 MHz主頻+2.4 MHz邊帶的“雙頻耦合”模式,高頻端在液體中形成過飽和聲壓,空化閾值提高,氣泡半徑R與頻率f成反比,理論直徑縮減至150–200 nm,可深入0.1 µm溝槽,對30 nm SiO?顆粒的去除率>99 %。
         
          脈寬-間隙納米調控
         
          通過10–100 ns級脈寬調制,使氣泡在“初生-坍縮”周期內釋放的局部能量<0.1 pJ,僅為傳統40 kHz空化的1/500,實現“軟剝離”,避免High-k柵介電層微裂紋。
         
          納米顆粒協同
         
          槽液預混0.005 wt% PEG修飾SiO?納米球,其表面Zeta電位-40 mV,可吸附污染物并作為“二次空化核”,在1 MHz場中同步共振,提升納米顆粒捕獲概率2.3倍。
         
          二、硬件架構:三通道相位控制+石英沉浸式換能器
         
          三通道獨立功放,相位差0–120°連續可調,可生成行波/駐波/渦旋波三場模式,消除清洗盲區;
         
          6 mm厚熔融石英沉浸式振板,聲阻抗接近水,電聲轉換效率>92%,表面鍍ITO透明導電層,實現“可視化空化”監控;
         
          真空脫氣+恒溫±0.2 ℃閉環,確保液體含氧量<1 ppm,抑制氣泡合并,維持納米空化穩定。
         
          三、工藝驗證超聲波清洗機
         
          12英寸CMP后晶圓
         
          傳統兆聲清洗后0.12 µm顆粒殘留58顆,引入ALBA-SONIC 90 s清洗后降至3顆,滿足先進制程<10顆/片要求,表面粗糙度Ra增量<0.01 nm。
         
          光通訊FA光纖端面
         
          1.2 MHz行波模式去除亞微米Al?O?磨粒,端面激光回損由-45 dB降至-55 dB,器件插損合格率提升8%。
         
          車載玻璃非球面鏡頭
         
          2.4 MHz駐波+納米SiO?協同,對指紋-油膜混合污染一次洗凈,水滴角<5°,鍍膜前表面能達72 mN·m?¹,膜層附著力提高15%。
         
          四、智能控制與數據追溯
         
          7寸觸控屏實時顯示空化強度指數、顆粒去除率曲線,支持SECS-GEM協議,可與MES對接;
         
          內置AI異常識別:當空化強度突降>10%,自動報警并提示換能器老化或液體過飽和;
         
          日志文件自動生成CSV,含時間、頻率、功率、顆粒計數,滿足FDA 21 CFR Part 11電子記錄要求。
         
          五、應用前景
         
          隨著3D NAND、GAA、Chiplet等微納結構縱深比持續增大,ALBA-SONIC的納米級空化技術有望從晶圓級擴展到先進封裝、微光學、MEMS等領域,成為“后摩爾時代”超精密清洗的新基準
         
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